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位于半導(dǎo)體工廠(chǎng)生產(chǎn)設(shè)備側(cè)，用于處理半導(dǎo)體制程中使用或產(chǎn)生的危害性特殊氣體。一般作為各類(lèi)工藝設(shè)備的附屬裝置設(shè)置于潔凈廠(chǎng)房SUB FAB區(qū)域。

可處理尾氣類(lèi)型

可燃性氣體、水溶性氣體、毒性氣體、PFCs類(lèi)
H2、CO、SiH4、PH?、CxHy、TMA、Cl2、F2、HCl、HF、HBr、NH3、BH3、B2H6、WF6
NF3、CF4、C2F6、SF6、CHF3、CH2F2、BF3、SiF4、N2O等

處理方式按需定制

可處理尾氣類(lèi)型

可燃性氣體、水溶性氣體、毒性氣體、PFCs類(lèi)、H2、CO、SiH4、PH?、CxHy、TMA、Cl2、F2、HCl、HF、HBr、NH3、BH3、B2H6、WF6、NF3、CF4、C2F6、SF6、CHF3、CH2F2、BF3、SiF4、N2O等